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>室溫 ~ 1500℃
HS1500G 氣密腔超高溫熱台
HS1500G高溫熱為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計,可用於陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區。 此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1500℃ 範圍內控溫,同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔,且樣品區偏離視窗center,這樣即可以充入氮氣等保護氣體,來防止樣品高溫下反應,又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發物。
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HS1200G 超高溫氣密熱台
HS1200G高溫熱臺為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計,可用於陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區。 此款冷熱臺可在 30℃ ~ 1200℃ 範圍內控溫,同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔,且樣品區偏離視窗center,這樣即可以充入氮氣等保護氣體,來防止樣品高溫下反應,又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發物。此外另有真空腔型號HS1200V提供。
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HS1400 真空腔/氣密腔
HS1400是溫度可達1400℃的熱台,適用于制陶、冶金、地質、高溫材料等領域。冷熱台內默認為氣密腔,充入保護氣體可防止樣品高溫時發生氧化。 HS1400還可升為真空腔,腔室內可抽真空,也可充入保護氣體,並支持抽真空後通入氣氛這樣的複雜操作。HS1400還有樣品XY移動型號,支援對樣品位置作好定位。
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HS1500 真空腔/氣密腔
HS1500是溫度可達1500℃的熱台,適用于制陶、冶金、地質、高溫材料等領域。冷熱台內為氣密腔,可升至真空腔,氣密腔可充入保護氣體可防止樣品高溫時發生氧化;真空腔內可抽真空,也可充入保護氣體,並支持抽真空後通入氣氛這樣的複雜操作。
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